​工业金属键盘的抛光处理方法包括机械抛光、化学抛光、电解抛光、超声波抛光、磁性研磨抛光和流体抛光等。

机械抛光是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用，除去试样磨面上的极薄一层金属。

化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性浸蚀作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。
电解抛光是指金属制品在一定组成的溶液中进行特殊的阳极处理，以获得平滑、光亮表面的精饰加工过程。

超声波抛光就是将零件放在磨料悬浮液中，然后放进有超声波场的装置内。依靠超声波的振荡作用使磨料在零件表面起磨削抛光作用，而成为一种新的抛光方法。

磁性研磨抛光的方法是采用磁性研磨剂，通过磁场中磁力的作用，磁性研磨剂工作在表面，同时保持在模具表面和磁极之间间断工作。

流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。

可以根据需求选择合适的抛光方法。